我正在开始开发用于工作流绘图的 Eclipse 插件。现在,我必须了解Eclipse插件的体系。我想知道GEF,EMF和GMF之间的差异/关系,到目前为止,最新的技术是什么?我在哪里可以获得理解材料?

有帮助吗?

解决方案

  1. EMF(Eclipse 建模框架)为您提供了帮助您创建模型的工具。基本思想是使用 ecore 定义一个领域模型,然后使用该模型,您可以为该模型生成大量代码:域中每个实体的 java 类,具有 getter/setter、监听功能和许多其他好处。
  2. GEF - 图形编辑框架 - 是一个为使用 MVC 模式在 Eclipse 中创建可视化编辑器而编写的框架。它构建在draw2d 之上,draw2d 是SWT 之上的“轻量级”绘图框架。全球环境基金确实 不是 需要使用 EMF 作为其模型,并且您可以使用任何您喜欢的模型,但是由于 EMF 生成您通常需要执行 MVC 的代码,因此它非常有用。
  3. GMF(图形建模框架)是建立在 EMF 和 GEF 之上的框架。基本上,您创建域模型和视图模型,并且 GMF 生成编辑器的所有代码。

过去一年我在 GEF 和 EMF 工作,取得了很好的成果。几周以来,我尝试使用 GMF,但无法理解那里的工作原理 - 学习曲线非常陡峭。我写了一组 GEF 教程, ,并邀请您查看它们。

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