수직 변형을 겪고있는 다각형 메쉬의 일정한 수평 밴드 높이 (Opengl ES 1.1)

Question

일반적인 알고리즘을 사용하여 표준 다각형 메쉬에서 텍스처 매핑을 구현할 때,이 방향의 정점 대신 일정한 높이의 쿼드 행의 밴드를 따라 가면 y 축을 따라 변형과 관련된 문제를 해결할 수 있습니다. x 축을 따라 그것에 비해 독립적으로 스트레칭.

메쉬의 정점을 정의 할 때 각 행은 하단과 상단 정점을 정의하여 한 행에 대한 정점의 상단 행이 위의 행에 대한 정점 행을 공유하는 한 행에 대한 정점의 상단 행을 초래하기 때문에 이것에 실립니다.

X 또는 Z 축을 따라 메쉬를 변형시키는 경우에는 괜찮지 만,이 축을 따라 메쉬를 고려하지 않고 메쉬를 변형하면 쿼드 행이 함께 작용한다는 것을 알 수 있습니다. 독립 지점의 행 대신 일정한 높이. Y 축을 따라 메쉬의 변형이 보이지만,이 밴드가 너비가 변하지 않기 때문에 텍스처 찢어짐도 볼 수 있습니다.

이 방식으로 구성된 다각형 메쉬에 (x, y) 변위 맵 필터를 적용하는 방법에 대한 제안이있는 다른 사람이 있습니까? 아니면 메쉬를 정의하는 접근 방식이 근본적인 방식으로 변경되어야합니까?

메쉬 생성 알고리즘의 예를 볼 수 있습니다. Zeus Opengl | 텍스처 매핑에 대한 자습서.

감사.

Answer 1

OK 내가 먼저 질문을 이해하는지 확인하십시오.

내가 당신을 올바르게 이해한다면, 당신은 텍스처 매핑 패치를 렌더링하려고합니다. 그러나 수직 방향으로 패치를 밟으려고 할 때 키가 커지고 메시 눈물의 다른 수평 밴드가 여러 수평 패치로 끝납니다.

맞습니까?

그렇다면 문제가 메쉬 생성 알고리즘에 있으면 텍스처 매핑 자체가 변경되지 않아야합니다. 제공된 링크에서 볼 수있는 것에서, 각 수평 밴드 사이의 정점은 공유되지 않으며 복제됩니다. 따라서 상단 정점 사이의 간격을 확장하면 하단 정점이 다음 행 상단 정점에 맞도록 밴드 높이를 확장해야합니다.

알고리즘의 기본 사항은 행 간격과 행 높이를 모두 조정하면됩니다. 원시 목록이 어떻게 작동하는지 조금 더 이해하면 인덱스 된 프리미티브에 대해 배우고 싶을 수도 있습니다. 그것들을 사용하면 모든 원시적으로 정점을 복제하는 대신 정점을 공유 할 수 있습니다.

도움이되기를 바랍니다.